Методы напыления тонких пленок, приенение установки ВУП-5
Курсовая по предмету:
"Физика"
Название работы:
"Методы напыления тонких пленок, приенение установки ВУП-5"
Автор работы: Игорь
Страниц: 18 шт.
Год:2008
Краткая выдержка из текста работы (Аннотация)
Образцы для исследования в просвечивающем электронном микроскопе могут быть приготовлены как непосредственно из материала исследуемого объекта, так и из материала, отличного от материала объекта. В первом случае анализ электроннограмм и дифракционного контраста на изображении дает непосредственную информацию о кристаллической структуре объекта. Тонкие образцы для таких исследований готовятся с помощью следующих методик:
получение тонких срезов на ультрамикротоме;
утончение объектов химической полировкой или ионной бомбардировкой;
напыление пленок термическое испарение, катодное распыление, газотранспортные реакции и т.д.
разбрызгивание и высушивание (для порошков и суспензий).
Тонкие пленки представляют собой слой какого-либо материала толщиной от 10 до 10000А. Они различаются по своим физическим и химическим свойствам: эпитаксиальные монокристаллические и аморфные, проводящие и диэлектрические, органические и неорганические. Под эпитаксиальной пленкой обычно понимают монокристаллический слой, выращенный на монокристаллической подложке с которой он имеет определенное кристаллографическое соответствие. Эпитаксиальные монокристаллические пленки обычно содержат дефекты, такие, как дислокации, дефекты упаковки, двойники и субструктуры. Когда верхний слой того же состава, что и подложка, его называют гомоэпитаксиальным, если же верхний слой другого состава, то он называется гетероэпитаксиальным. Аморфные тонкие пленки обладают либо структурой типа беспорядочной сетки, либо беспорядочной плотноупакованной структурой.
В данной работе будет рассмотрен метод напыления тонких пленок термическим испарением на установке ВУП-5.
Содержание работы
Содержание
Введение 2
Термическое (вакуумное) напыление 3
Катодное напыление 5
Ионная бомбардировка 7
Ионно-плазменное напыление 9
Анодирование 11
Электрохимическое осаждение 12
ВУП-5, технические характеристики 13
Трансмиссионная электронная микроскопия 15
Заключение 17
Литература 1
Использованная литература
- Технология тонких пленок. Справочник, под ред. Л. Майссела, Р. Глэнга, пер. с англ., т. 1-2, М., 1977;
- Плазменная металлизация в вакууме, Минск, 1983;
- Черняев В.Н., Технология производства интегральных микросхем и микроциклоров, 2 изд., М., 1987;
- Волков С. С., Гирш В. И., Склеивание и напыление пластмасс, М., 1988;
- Коледов Л. А., Технология и конструкция микросхем, микроциклоров и микросборок, М., 1989. Л. А. Коледов.
- Шиммель Г., Методика электронной микроскопии, пер. с нем., М., 1972